1、基片尺寸：6吋及以下；

2、樣品高度：≤6mm；

3、反應(yīng)腔：氮?dú)獗Ｗo(hù)的高溫密封系統(tǒng);

4、腔體烘烤溫度：RT～200℃可控，控制精度±1℃;

5、沉積模式：連續(xù)模式、停流模式;

6、前驅(qū)體輸運(yùn)系統(tǒng)：標(biāo)準(zhǔn) 2 路前驅(qū)體管路，1 路為常溫源，1 路為加熱源；

7、前驅(qū)體源瓶：50cc 不銹鋼標(biāo)準(zhǔn)源瓶；

8、沉積均勻性：Al2O3 均勻性≤±1%；

9、系統(tǒng)總控：人機(jī)界面及全自動控制程序；

10、電源 ：220VAC/50Hz，3.3KW；

11、機(jī)器重量：400kg；

12、機(jī)器尺寸：W1110 mm ×D610 mm ×H1210 mm。